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半导体设备国产化专题十一：离子注入机
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数据简介
离子注入机分为3大类:低能大束流占离子注入机市场的60%，高能和中束流分别占20%左右。根据离子束电流和束流能量范国，离子注入机可分为三大类:中低柬流离子注入机、低能大恣流离子注入机、高能离子注入打。低能大束流离子注入机市场规模最大，且随着先进制程发展，大束流离子注入机的占比将会更高。
详情描述
离子注入决定芯片内部结构中器件的最基础性能。离子注入属于物理过程，依靠调节剂量、射程、注入熊度等三大重要参数，精确控制掺杂并实现数量与质量的可控，通过入射离子与靶材原子的电子阻碍和核阻碍等能量损耗机制达成靶材内的驻留。离子注入设备包含5个子系统和6大核心零部件。离子注入机的5大子系统分别为:气体系统、电机系统、真空系统、控制系统和射线系统，其中射线系统为核心系统。离子注入机的6火核心零部件主要包括离子源、吸板、离子分析器、加速管、扫描系统、工艺腔等部件。
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