数据简介

光刻胶（Photoresist简称PR）又称光致抗蚀剂，是一种对光敏感的有机混合物，用于微细图形加工；光刻胶的基本组分：树脂、溶剂、光引发剂、单体及其他助剂；光刻胶根据其感光树脂的化学结构可分为：光聚合型：采用烯类单体，在光照下生成自由基，进一步引发单体聚合，最后生成聚合物，可制成负性胶；光分解型：采用含有叠氮醌类化合物材料，经光照后，发生光分解反应，由油溶性变为水溶性，可制成正性胶；光交联型：采用聚乙烯醇月桂酸酯作为光敏材料，在光的作用下，形成不溶性的网状结构聚合物，可制成负性胶。