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瓦森纳协议增加对EUV计算光刻软件的出口管制。根据瓦森纳主页，去年年底《瓦森纳安排》进行了新一轮修订，增加了计算光刻软件和12英寸硅片切割、研磨、抛光等方面的技术出口管制。新版《瓦森纳安排》是在原有版本基础上，增加了一条针对EUV光刻掩膜而设计的计算光刻软件内容，并保留对符合光源波长短于193nm，或MRF（最小可分辨特征尺寸）小于或等于45nm的光刻机的出口管制标准。